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  • MOCVD設備


    MOCVD全稱是Metal-Organic Chemical Vapour Deposition(金屬有機化學氣相沉積設備),是在基板上生長半導體薄膜的一種技術。利用MOCVD技術,許多納米層可以以極高的精度沉積,每一層都具有可控的厚度,以形成具有特定光學和電學特性的材料。

  • 刻蝕設備


    中微公司專注于研發干法刻蝕(等離子體刻蝕)設備,用于在晶圓上加工微觀結構。干法刻蝕通過等離子釋放帶正電的離子來撞擊晶圓以去除(刻蝕)材料。根據所要去除材料和加工器件結構的不同,可分為電介質刻蝕、導體刻蝕和硅通孔刻蝕。

  • 環保設備


    現在的制造生產線上應確保不出現任何疏漏。這適用于設備、工藝、專業技能和其他所有能夠使制造流程的效率最大化并控制成本的要素。確保生產車間內的空氣清潔、健康且無有害顆粒也同樣重要。

新聞活動


中微公司榮獲第四屆中國質量獎提名獎

第四屆中國質量獎于2021年9月16日第四屆中國質量大會正式揭曉,中微半導體設備(上海)股份有限公司榮獲“中國質量獎提名獎”。

17 Sep 2021

中微公司專利再次榮獲中國專利金獎

近日,中微半導體設備(上海)股份有限公司的發明專利“等離子體處理裝置及調節基片邊緣制程速率的方法”榮獲第二十二屆中國專利金獎。

30 Jun 2021

中微公司臨港產業化基地項目開工儀式順利舉行

2021年6月20日上午,臨港新片區隆重舉行第二季度建設工程集中開工儀式,共計12個項目于各項目會場集中開工。

20 Jun 2021

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